应伟德BETVlCTOR1946物理与电子科学学院的邀请，张冠张研究员于10月19日下午来公司交流访问，并作了题为“低温超临界流体技术在电子器件中的应用”的学术报告。报告首先介绍了超临界流体技术的优势，超临界流体具有类似液体的溶解性与气体的穿透性，因此可以作为电子器件后处理的一种有效方式。报告还列举了超临界技术在阻变存储器、太阳能电池、光电探测器在经过超临界流体技术处理前后性能的测试数据，发现超临界处理能极大改善器件的性能。通过研讨，与会教师员工认识到超临界流体技术的优点，并与张博士对该技术进行深入探讨。
张冠张，台湾中山大学研究员。主要研究方向为阻变式存储器及超临界流体技术。他与台积电、友达光电及联电均有技术合作并取得一定的技术开发成果,共发表70篇SCI国际期刊，获得11项专利，近五年发表论文H因子19。
